অ্যালুমিনিয়াম এবং দস্তা রক্ষা করার জন্য তুচ্ছ ক্রোমিয়াম প্রিট্রেটমেন্ট প্রযুক্তি

অ্যালুমিনিয়াম এবং দস্তা রক্ষা করার জন্য তুচ্ছ ক্রোমিয়াম প্রিট্রেটমেন্ট প্রযুক্তি

ইউএস নেভাল এভিয়েশন সেন্টার একটি প্রযুক্তি উদ্ভাবন করেছে যা পরিবেশগত সমস্যা সৃষ্টি না করেই অ্যালুমিনিয়াম এবং দস্তা পণ্যগুলি কার্যকরভাবে রক্ষা করতে ত্রয়ী ক্রোমিয়াম প্রিট্রেটমেন্ট (টিসিপি) প্রযুক্তি এবং চিকিত্সা পরবর্তী প্রযুক্তি ব্যবহার করে। এই প্রযুক্তিটি বাজারে এনেছে জার্মান সংস্থা সারটেক ইন্টারন্যাশনাল। অ্যালুমিনিয়াম মিশ্রণগুলিতে জারা প্রতিরোধের এবং পেইন্টের আনুগত্যের উন্নতির জন্য, পাশাপাশি অ্যানোডাইজড অ্যালুমিনিয়াম এবং কোরবানির আবরণগুলির পারফরম্যান্সের জন্য পৃষ্ঠের চিকিত্সা করা জরুরি। টিসিপি হ'ল একমাত্র অ-হেক্সাভ্যালেন্ট ক্রোমিয়াম লেপ, যা সম্পূর্ণরূপে অ্যালুমিনিয়াম pretreatment এবং পরবর্তী চিকিত্সার জন্য সামরিক বৈশিষ্ট্যের প্রয়োজনীয়তা পূরণ করে। এটি বৈদ্যুতিন এবং টেলিযোগযোগ প্রযুক্তির জন্য আদর্শ উপাদান হিসাবে চালকত্বের উন্নতি করতে পারে।

ন্যানো ফিল্ম ডিপোজিশন প্রযুক্তি ডিভাইস কনফর্মাল ফিল্ম করে

এই ন্যানো-ফিল্ম জমা দেওয়ার প্রক্রিয়াটি যুক্তরাষ্ট্রের তেগাল পেটেন্ট করেছেন। এই প্রক্রিয়াটি ব্যবহার করে, মাইক্রোপ্রসেসর এবং মেমরি ডিভাইসের জন্য বাধা, তামা বীজ এবং উচ্চ-কে ডাইলেট্রিকগুলি তৈরি করা যেতে পারে। সিস্টেম এবং পদ্ধতিতে এর আগে ন্যানো-পু ফিল্ম ডিপোজিটিং (এমএলডি) জন্য অদৃশ্য ক্ষমতা রয়েছে। পারমাণবিক স্তর জমার সাথে তুলনা করে, এনএলডি অতি-উচ্চ বিশ্বস্ততা বৃদ্ধি পেতে পারে: রাসায়নিক বাষ্পের জমার তুলনায়, এনএলডি শক্তিশালী উত্পাদন ক্ষমতা রাখে। এনডি বিভিন্ন ধরণের পূর্বসূরীদের চয়ন করতে পারে এবং জটিল, যৌগিক ফিল্ম স্ট্রাকচার তৈরিতে ব্যবহার করা যেতে পারে, এর প্রক্রিয়া নিয়ন্ত্রণের ক্ষমতাটি বিশেষত শক্তিশালী। এই প্রক্রিয়ায় বিভিন্ন ধরণের পাতলা ফিল্ম উপকরণ যেমন টাইটানিয়াম নাইট্রাইড, তামা এবং কিছু অন্তরক ফিল্ম উপকরণের বিকাশের জন্য একটি পালস প্লাজমা জরিমানা প্রযুক্তি অন্তর্ভুক্ত রয়েছে। এই পালস প্রযুক্তি লো-কে বৈশিষ্ট্যযুক্ত সুরক্ষার জন্য অন্তরণ বিচ্ছিন্নতার জন্যও উপযুক্ত।

এনএলডি সিস্টেমে প্লাজমা উত্স একটি সর্পিল রড ইলেক্ট্রোড। সিস্টেমটিতে প্রাক-পরিষ্কারের জারা, এমএলডি এবং ঘনকরণের মতো বিভিন্ন প্রক্রিয়াগুলির জন্য একটি বহু-বৃদ্ধি চেম্বার প্ল্যাটফর্ম অন্তর্ভুক্ত রয়েছে।

টাইটানিয়াম-বর্ধিত হাউইটজার ব্যারেল স্পিনিংয়ের মাধ্যমে তৈরি

এম 77 লাইট 15 মি হাওইটজার (এলডাব্লু 155) একটি আগ্নেয়াস্ত্র যা পুরানো স্টিলের সুরক্ষিত এম 9 8155 মিমি হাওইটজার আপডেট করতে ব্যবহৃত হয়, যা ইউএস মেরিন কর্পস এবং আর্মিতে ব্যবহৃত হয়েছিল। L155 ক্র্যাডলের ব্যারেল ব্যারেল সিস্টেম এবং অ্যান্টি-সিট সিস্টেমকে সমর্থন করতে পারে। এটি পারফরম্যান্স উন্নতির জন্য T6A4V ব্যবহার করার জন্য জাতীয় কেন্দ্রের উন্নত ধাতু প্রক্রিয়াকরণ প্রযুক্তি (এনসিইএমটি) দ্বারা ব্যবহৃত একটি উপাদান। এনসিইএমটি ব্যারেলটির জন্য প্রসেসিং পদ্ধতি নির্ধারণ করার চেষ্টা করছে যাতে ব্যয়গুলি হ্রাস করতে পারে এবং বর্তমান এক্সট্রুশন প্রক্রিয়াটির চেয়ে কম বর্জ্য উত্পাদন করা যায়।

এনসিইএমটি স্পিনিং নামে একটি নতুন প্রক্রিয়া ব্যবহারের সিদ্ধান্ত নিয়েছে। ডায়নামিক মেশিন ওয়ার্কস (ডিএমডাব্লু) এই ব্যারেলগুলি তৈরি করতে একটি স্পিনিং প্রক্রিয়া তৈরি করেছে। ফলস্বরূপ, ডিএমডাব্লু বৃহত্তম স্পিনিং টি -6 এ-4 ভি ব্যারেল উত্পাদন করেছিল যা এর আগে কখনও দেখা যায়নি, যার ব্যাস 142 ছিল।

সেমি, দৈর্ঘ্য 183 সেমি।

স্পিনিং হ'ল একটি শীতল গঠনের প্রক্রিয়া যা সঠিক মাত্রা সহ ফাঁকা সিলিন্ডার তৈরি করতে পারে। উচ্চতর নির্ভুলতার কারণে, এই প্রক্রিয়াটি মহাকাশ এবং সামরিক নলাকার উপাদানগুলিতে ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয়েছে। কাটনা প্রক্রিয়া চলাকালীন, একটি ঘন প্রাচীরযুক্ত T5A4V মিশ্র সিলিন্ডারটি একটি ঘূর্ণনকারী ইলেক্টর রডের চারপাশে ঘূর্ণনকারী চাপ বেলনটির মাধ্যমে প্রয়োজনীয় আকারে না পৌঁছানো পর্যন্ত ঘোরানো হয়। যেহেতু প্রায় 10% কাঁচামাল ধরে রাখা হয়, তাই স্পিনিং পদ্ধতিটি ব্যয়বহুল অ্যালো দ্বারা উত্পাদিত বর্জ্যকে হ্রাস করে। প্রক্রিয়াটির সাফল্যের ভিত্তিতে আশা করা যায় যে প্রক্রিয়াটি অন্যান্য অস্ত্র সিস্টেমে ব্যবহার করা যেতে পারে